Die neuen basieren auf den bekannten Standardanlagen mit rotierenden und planaren Kathoden, wurden aber zur Herstellung von DLC-Schichten der 2. Generation erweitert. Die Zielkunden sind kleine und mittelständische Unternehmen, die in einer Anlage und in einer Charge konventionelle, Nanocomposite- und DLC-Schichten flexibel abscheiden wollen.

Hier die wichtigsten Merkmale der neuen Maschinen:

– Kombinierte PVD- und PECVD-Prozessführung

– BIAS 350 kHz

– Spezielle Heizungen mit Schmutzfiltern

– Doppelte Shutters; Virtual Shutter® und Tube Shutter®

– Spezielle Gas-Leitung, geregelt mit MFC, für spezielles Gas mit Si

• Si erhöht Wärmebeständigkeit der Schicht

• Si reduziert interne Spannung – dicke Schichten sind möglich; > 8 µm.

Der Zielmarkt ist die flexible Beschichtung von

– hochwertigen Maschinenteilen,

– Aerospace-Komponenten,

– medizinischen Implantaten,

– Zerspanwerkzeugen für schwer zerspanbare Materialien und

– Umformwerkzeugen.

Artikel erschienen in WT 107 auf Seite 62.